真空鍍膜機與高真空的關系

蒸發(fā)真空鍍膜機工作時真空材料蒸發(fā)出來的原子或分子不要受空氣分子的阻擋而直接濺落到固體的表面，這樣，鍍膜層形成的速度高，膜層結合力強，成膜質量也好。

反之，如果真空度低，有大量的空氣分子存在，一方面，蒸發(fā)真空鍍膜機蒸發(fā)出來的原子或分子與空氣分子碰撞，阻礙了膜材分子的擴散，降低了膜層形成的速度，影響了膜的均勻性與結合力；另一方面，空氣的導熱使得膜材的溫度不能很快地升高，必然要加大加熱功率；更有甚者，空氣的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分變性；在連接著抽氣機的情況下，若不能很快完成鍍膜，膜料將被抽走。

因此，真空鍍膜機需要在高真空條件下進行工作；當然，真空度也不需要絕對的高。事實上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距離即可。如果需要確保真空鍍膜產品厚度的均勻性，可使用真空鍍膜光密度在線測試儀來連續(xù)監(jiān)控鍍膜品質。

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