真空鍍膜機(jī)在線檢測(cè)設(shè)備

光密度在線測(cè)試儀可應(yīng)用于真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線上，真空鍍膜設(shè)備(Vacuum coating equipment)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過? 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖
程，最終形成薄膜。

真空鍍膜設(shè)備薄膜均勻性的概念：
??? 1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
??? 2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
??? 3.晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。

真空鍍膜設(shè)備具體生產(chǎn)過程中的在線檢測(cè)，可以安裝光密度在線測(cè)試儀來連續(xù)監(jiān)測(cè)真空鍍膜設(shè)備的鍍膜品質(zhì)。光密度在線測(cè)試儀的檢測(cè)原理是通過對(duì)鍍膜完成后整條線薄膜厚度的光學(xué)性能穩(wěn)定性測(cè)試，光源探測(cè)可見光透過率以及紅外線、紫外線的穿透率來控制鍍膜機(jī)，保證鍍膜生產(chǎn)設(shè)備的生產(chǎn)高效性。

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